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數(shù)顯勻膠臺/勻膠臺 型號:GP/SJT-A本機是用于半導(dǎo)體、集成電路及激光息商標(biāo)制過程中,在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻(感光)膠的用設(shè)備。本機的作原理是利用速旋轉(zhuǎn)時產(chǎn)生的離心力,將滴于基片上多余的光刻(感光)膠液甩去,在光刻(感光)膠表面張力和離心力的共同作用下,展成厚度均勻的膠膜。本機具有勻膠效率、使用方便等優(yōu)點,勻膠速度和勻膠時間分別可調(diào),電器電路具有較
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數(shù)顯勻膠臺/勻膠臺 型號:GP/SJT-A
數(shù)顯勻膠臺本機是用于半導(dǎo)體、集成電路及激光息商標(biāo)制過程中,在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻(感光)膠的用設(shè)備。本機的作原理是利用速旋轉(zhuǎn)時產(chǎn)生的離心力,將滴于基片上多余的光刻(感光)膠液甩去,在光刻(感光)膠表面張力和離心力的共同作用下,展成厚度均勻的膠膜。本機具有勻膠效率、使用方便等優(yōu)點,勻膠速度和勻膠時間分別可調(diào),電器電路具有較的穩(wěn)定性,結(jié)構(gòu)合理,旋轉(zhuǎn)平穩(wěn),轉(zhuǎn)速、時間采用數(shù)字顯示,直觀性強。本機可與光刻機配套使用。 | ||||||||||||||||
主要參數(shù):
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本機是用于半導(dǎo)體、集成電路及激光息商標(biāo)制過程中,在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻(感光)膠的用設(shè)備。本機的作原理是利用速旋轉(zhuǎn)時產(chǎn)生的離心力,將滴于基片上多余的光刻(感光)膠液甩去,在光刻(感光)膠表面張力和離心力的共同作用下,展成厚度均勻的膠膜。本機具有勻膠效率、使用方便等優(yōu)點,勻膠速度和勻膠時間分別可調(diào),電器電路具有較的穩(wěn)定性,結(jié)構(gòu)合理,旋轉(zhuǎn)平穩(wěn),轉(zhuǎn)速、時間采用數(shù)字顯示,直觀性強。本機可與光刻機配套使用。 | ||||||||||||||||
主要參數(shù):
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